电子及半导体领域
光刻胶涂覆
FUNSONIC超声波镀膜系统可以使用先进的分层技术对流速、镀膜速度和沉积量进行精细控制。低速喷雾成型将雾化喷雾定义为精确、可控的图案，避免过度喷涂，同时产生非常薄、均匀的涂层。使用超声波技术的直接喷涂已被证明是一种可靠且有效的方法，可将光刻胶沉积到 3D 微结构上，从而减少因金属过度暴露于蚀刻剂而导致的设备故障。
超声喷涂光刻胶涂层的优势
- 各种表面轮廓的均匀薄膜覆盖。
- 能够以优异的均匀性涂覆高纵横比的沟槽。
- 不堵塞雾化喷雾。
- 能够以高均匀性沉积薄的单微米层。
- 可重复验证的喷涂工艺。
助焊剂喷涂
FUNSONIC拥有广泛的专业知识，可将高度均匀的助焊剂薄膜应用于目标区域，几乎没有过度喷涂且不会堵塞。我们提供包括超声喷头、超声控制、计量供液等完整的助焊剂的超声波雾化喷涂解决方案， 既可用于大面积整面涂覆、也可用于特殊区域的选择性喷涂，并可方便快捷的直接嵌入到现有的波峰焊系统中。
超声喷涂系统用于助焊剂喷涂的优势
- 助焊剂消耗减少高达 80%。
- 减少浪费的过度喷涂和大气污染。
- 最少的维修和停机时间。
- 出色的通孔穿透力，可实现最大的顶部填充。
- 高度可控的喷涂避免了过度喷涂造成的返工成本。
- 能够控制助焊剂厚度，涂层薄至 20 微米。
- 无堵塞超声波喷雾需要最少的清洁并提供高重复性，因为喷雾性能不会因压力喷头的逐渐堵塞而受到影响
